Abstract: We report superior gas sensing properties of nano-layered atomic layer deposited - tin oxide thin films with room temperature operation and discuss the role of thickness on the sensing ...
ALD（Atomic Layer Deposition）装置は、まるで「分子のミルフィーユ」を作るような繊細な成膜技術です。 CVD（化学気相成長法）が“シャワーのように原料ガスを振りかけて一気に反応させる”のに対し、ALDは“1層ずつ丁寧に原子の膜を重ねる”手法。ガスを順番 ...
Surface Engineering Group, Advanced Materials & Processes Division,CSIR-National Metallurgical Laboratory, Jamshedpur 831007, India Department of Energy Engineering, Korea Institute of Energy ...
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