ASMLは2月24～26日にかけて米国で開催された国際光工学会(SPIE)主催の半導体関連技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」にて、EUV露光装置のスループットを現状の毎時220枚から50％引き上げることができる光源技術の開発に成功したことを発表した。

半導体をつくるには数百から1千ほどの作業工程を重ねる。中でも、ウェハーと呼ばれる円い基板に強い光を当てて半導体の回路を焼き付ける「露光」は、最も重要な工程の一つとされる。露光のための装置は、日本企業も強みを持っていた。だが、最先端の ...

オランダASMLは世界で唯一EUV露光装置を生産する 半導体製造装置大手の東京エレクトロンは8日、同業のオランダASMLとベルギーの研究機関imec（アイメック）が共同運営する研究所に次世代装置を供給する計画を発表した。ASMLが手掛ける先端露光装置である ...

「EUV露光装置」は最先端半導体の製造に必要不可欠な装置で、オランダ企業のASMLが大きなシェアを握っています。新たに、ロシアがASMLに依存しない独自のEUV露光装置開発計画を作成しました。計画ではASMLとは異なる仕組みのEUV露光装置の開発が想定されて ...

【08月14日 KOREA WAVE】最先端の半導体生産に不可欠な極端紫外線（EUV）露光装置をめぐり、日本がオランダの独占的地位に挑戦状を突きつけた。 特に日本は、コストパフォーマンスに優れた新型装置を開発し、絶対的な影響力を持つオランダの装置メーカー ...

昨今の高性能半導体を製造するためには「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」と呼ばれる技術が不可欠で、世界で唯一、オランダの企業ASMLだけが関連機器を製造していますが、アメリカの圧力を受けたオランダの制裁措置の影響でASMLは中国との取引を禁じられて ...

半導体の製造には、電子回路パターンをウエハーに焼き付ける露光装置が不可欠だ。現在、この半導体露光装置市場はオランダのASMLホールディングの独壇場となっており、とりわけ最先端のEUV（極端紫外線）露光装置ではシェア100％を誇る。ところがここに ...

装置売上高に占めるEUV露光装置の比率は、前四半期の48％から66％に急増した。また、用途別でメモリ向けが前四半期の30％から51％に急増した。国・地域別では前四半期で36％を占めていた中国が19％に下落した一方、台湾が前四半期の13％から23％に増加 ...

最先端の半導体に欠かせない製造装置を世界で唯一生産するオランダのASMLホールディングが、日本で先端装置の保守を担当する人員を27年までに現在の5倍の100人に増やす。最先端半導体の量産を目指すラピダスなど、国内で先端工場が稼働するのに対応する。

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