昨今の高性能半導体を製造するためには「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」と呼ばれる技術が不可欠で、世界で唯一、オランダの企業ASMLだけが関連機器を製造していますが、アメリカの圧力を受けたオランダの制裁措置の影響でASMLは中国との取引を禁じられて ...

Intelが2024年4月18日、アメリカ・オレゴン州ヒルズボロの研究開発拠点で、業界初となる商用高開口数(NA)極端紫外線(EUV)リソグラフィの組み立てを完了したと発表しました。このEUVリソグラフィはオランダの半導体装置大手・ASML製であり、1.4nmプロセスに相当 ...

2025年通期売上高を露光技術に見ると、EUVが占める割合が2024年の38％から48％へと拡大している。今後、高NA EUV露光装置の本格出荷に伴い、EUVが占める割合は過半を超えることが予想される。 また、国・地域別で見ると、最大市場は2024年の41％から33％まで ...

Reverse-engineering lithography machines—the equipment on which advanced computer chips are manufactured—is not as straightforward as copying most industrial designs. In the race between innovators ...