ASML Holding (ENXTAM:ASML) expects the first chips made with its new High-NA EUV lithography systems to be produced within months. The move signals a shift from High-NA EUV research and development ...

極紫外線（EUV）露光装置は、スマートフォン、コンピューター、データセンターなどで使われる半導体の回路を基板に焼き付けるのに不可欠だ。世界に現存するのは数百台に過ぎず、その全てをオランダの半導体製造装置大手ASMLが製造している。しかし、世界経済全体を支えるこの技術的驚異は、同社製品の中で最も切望されているものではないかもしれない。

EUV露光機市場を独占する蘭ASMLの2026年1〜3月期(Q1)売上は前年比13.3%増、純利益が同17.1%増の増収増益になった。通期売上も360〜400億ユーロと過去最高を見込んでいる。AI需要の拡大を背景に2030年には売上440〜600億ユ ...

NYタイムズが「映画『チャイナ・シンドローム』や『ミッション：インポッシブル』並のノンフィクション・スリラーだ」と絶賛！ エコノミストが「半導体産業を理解したい人にとって本書は素晴らしい出発点になる」と激賞!! フィナンシャル・タイムズ ...

オランダASMLは世界で唯一EUV露光装置を生産する 半導体製造装置大手の東京エレクトロンは8日、同業のオランダASMLとベルギーの研究機関imec（アイメック）が共同運営する研究所に次世代装置を供給する計画を発表した。ASMLが手掛ける先端露光装置である ...

昨今の高性能半導体を製造するためには「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」と呼ばれる技術が不可欠で、世界で唯一、オランダの企業ASMLだけが関連機器を製造していますが、アメリカの圧力を受けたオランダの制裁措置の影響でASMLは中国との取引を禁じられて ...

【08月14日 KOREA WAVE】最先端の半導体生産に不可欠な極端紫外線（EUV）露光装置をめぐり、日本がオランダの独占的地位に挑戦状を突きつけた。 特に日本は、コストパフォーマンスに優れた新型装置を開発し、絶対的な影響力を持つオランダの装置メーカー ...

2025年2月23〜27日に開催された半導体リソグラフィー技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography+Patterning」（米カリフォルニア州サンノゼ）では、開口数（NA）を現状の0.33から0.55へ高めた次世代のEUV（極端紫外線）露光に関する発表に注目が集まった。オランダASML ...

半導体をつくるには数百から1千ほどの作業工程を重ねる。中でも、ウェハーと呼ばれる円い基板に強い光を当てて半導体の回路を焼き付ける「露光」は、最も重要な工程の一つとされる。露光のための装置は、日本企業も強みを持っていた。だが、最先端の ...

ロイターは2025年12月18日、中国がEUV（Extreme Ultraviolet：極端紫外線）による露光装置の試作機を開発したと報じた（「中国の半導体版『マンハッタン計画』、最先端チップ製造へ試作機完成」）。この開発の中心には、ファーウェイの存在があるとみられている ...