24日SKハイニックスは、オランダの装置メーカーであるASMLからEUVスキャナーを導入することを決定したと公示した。総取得金額は約11兆9,496億ウォンで、2024年末基準の資産総額の9.97%に当たる。取引は2027年12月まで約2年にわたり進 ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫）は、次世代半導体露光技術と目されるEUVリソグラフィに特化した書籍を5月23日付で発刊いたしました。 ★EUVリソグラフィの概要・微細化の変遷にはじまり、レジスト材料・光源・露光 ...

ASMLは、2023年末までに高NA(NA=0.55)EUV露光装置(試作用)の商用1号機を出荷し、2025年には量産機の出荷を開始することを予定している。これにより、顧客は2025年ごろから、NA=0.33の従来型EUV露光装置によるマルチパターニングから高NA EUV露光装置によるシングル ...

長春光学・精密機械・物理研究所は、すでに2002年には中国初のEUVリソグラフィ原理確認装置を開発、0.75nm RMSよりも優れた波面収差を有する2ミラーEUVリソグラフィ対物レンズシステムの開発に成功していた。その後も研究を続け、2017年には32nmプロセス対応 ...

The South Korean chip maker is ramping up its advanced-chip production capability in response to surging demand fueled by artificial intelligence.

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるEUVリソグラフィ技術での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ 」講座を ...

SK Hynix committed to purchasing extreme ultraviolet scanners from ASML for an estimated KRW12 trillion over the next two ...

静岡・韓国平澤拠点で、EUVレジストとEUV現像液の生産能力を増強 富士フイルム株式会社（本社 : 東京都港区、代表取締役社長・CEO : 後藤 禎一）は、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線（EUV）（*1）向けフォトレジスト（以下、EUV ...

EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成 次世代半導体向けた高NA EUVフォトマスクの評価用フォトマスクの提供も開始 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の ...

EUV lithography works by using a 13.5nm light to print nanometer-sized transistors on silicon wafers. At present, ASML is the ...

↓今注目の「投資テーマ」の解説＆銘柄はこちら！↓ 国内の半導体メーカー・ラピダスが、世界のどの企業も 量産化を実現していない「2ナノ半導体」の試作に成功！ 最先端半導体の国産化を目指す半導体製造会社のラピダスは、7月18日に国内で初めて「2 ...

KD Market Insightsは、「EUVマスクブランクス市場：将来動向および機会分析（2025～2035年）」と題した市場調査レポートの発刊をお知らせします。本レポートの市場範囲は、現在の市場動向および将来の成長機会に関する情報を網羅しており、読者が十分な情報 ...