2ナノメートル世代以降のEUVリソグラフィ向けフォトマスク 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、2ナノメートル（nm：10-9m）世代 ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今市場の増加が見込まれるEUVリソグラフィでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師陣からなる「半導体微細加工入門 ...

Lace Lithography has raised funds of $40m to advance its unique helium atom beam methods, designed to make more compact chips ...

ノートPCやスマートフォン、AIサーバーなど、既存のハイテク機器の内部には最先端の半導体が組み込まれています。この中には数百億個ものトランジスタが詰め込まれており、そのサイズは最小10nmほどと極小です。そんな超極小のトランジスタを製造する ...

Rapidus社に出資 次世代半導体の量産体制構築を支援 EUVリソグラフィ向けフォトマスクの開発・量産化を加速 大日本印刷株式会社（本社 : 東京 代表取締役社長 : 北島義斉 以下 : DNP）はRapidus株式会社（本社 : 東京 代表取締役社長兼CEO : 小池淳義）に対し出資 ...

サーベイレポート合同会社は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の予測評価を提供する2024年8月発行の調査レポート「極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別セグメント（光、光源、オプティクス、マスク、その他）、エンドユーザー別セグメント ...

KD Market Insightsは、「フォトリソグラフィ材料市場：将来動向および機会分析 ― 2025～2035年」と題した市場調査レポートの発刊を発表しました。本レポートの市場範囲は、現在の市場動向および将来の成長機会に関する情報を網羅しており、読者が十分な情報 ...

Lace Lithography has raised funds of $40m to advance its unique helium atom beam designed to make more compact chip equipment.

Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「半導体高集積化技術」における課題解決ニーズ ...

2025年10月23日に、QYResearch株式会社（所在地：東京都中央区）は、「計算リソグラフィソフトウェア―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2025～2031」の最新調査レポートを発表しました。本レポートでは、計算リソグラフィ ...

極端紫外線（EUV）リソグラフィ向けの革新的なフォトレジスト材料の開発をリードする Irresistible Materials, Ltd.（以下、IM社） と、東京応化工業株式会社（以下、TOK）は、EUVリソグラフィ向けフォトレジストのイノベーション加速を目的とした、戦略的投資 ...