大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノメートル（nm）相当のフォトマスク製造プロセスを開発しました。スマートフォンや ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、 ナノインプリント・リソグラフィでの技術者の課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の執筆陣からなる「ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望～EUVL ...

近年、10nmを下回るような先端半導体プロセスではEUV光源を用いるEUVリソグラフィが量産で活用されるようになっており、2023年には3nmプロセスを採用したロジック半導体の製造も開始されたほか、次世代となる2nmプロセスも2025年ころから量産への適用が ...

NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、2 ...

Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「半導体高集積化技術」における課題解決ニーズ ...

ベルギーimecは、SPIE(国際光工学会)の年次国際会議「2023 Advanced Lithography + Patterning Conference」にて、先端プロセスにおける ...

――既存技術よりも早期の段階で、1万倍高速な検査の実現も視野―― 【発表のポイント】 フォトリソグラフィを用いた半導体製造プロセスの不良検査について、実際にリソグラフィパターンが顕在化する前の段階で検査できる手法を開発しました。

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