株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるEUVリソグラフィ技術での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ 」講座を ...

2ナノメートル世代以降のEUVリソグラフィ向けフォトマスク 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、2ナノメートル（nm：10-9m）世代 ...

ノートPCやスマートフォン、AIサーバーなど、既存のハイテク機器の内部には最先端の半導体が組み込まれています。この中には数百億個ものトランジスタが詰め込まれており、そのサイズは最小10nmほどと極小です。そんな超極小のトランジスタを製造する ...

Rapidus社に出資 次世代半導体の量産体制構築を支援 EUVリソグラフィ向けフォトマスクの開発・量産化を加速 大日本印刷株式会社（本社 : 東京 代表取締役社長 : 北島義斉 以下 : DNP）はRapidus株式会社（本社 : 東京 代表取締役社長兼CEO : 小池淳義）に対し出資 ...

*****「ナノインプリントリソグラフィー消耗品の世界市場」調査資料（国内市場規模も記載）を発行 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界のナノインプリントリソグラフィー消耗品市場」調査レポートを発行・販売します。

極端紫外線（EUV）リソグラフィ向けの革新的なフォトレジスト材料の開発をリードする Irresistible Materials, Ltd.（以下、IM社） と、東京応化工業株式会社（以下、TOK）は、EUVリソグラフィ向けフォトレジストのイノベーション加速を目的とした、戦略的投資 ...