次世代パターン用直接描画装置「LeVina」を開発 株式会社SCREENホールディングスはこのほど、「デジタル×グリーン化」へとメガトレンドが変化しつつある先端パッケージングの大きな変革に合わせ、高精細パターン形成に対応する次世代パターン用直接描画 ...
〜高解像度と高生産性を両立、次世代パワーデバイスの安定生産に貢献〜 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズはこのほど、次世代パワーデバイスやCIS（※1）、MEMSなどのパターン検査に対応するウエハー外観検査装置「ZI-3600」を開発。11月から ...
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