半導体製造を支えるCVDとALD：薄膜形成技術の基礎知識 半導体デバイスの性能は、薄膜形成技術の精度に直結しています。 CVD（化学気相成長）とALD（原子層堆積）は、現代の半導体製造において中核を担う成膜プロセスです。 本記事では、プロセス ...

タブレットPCやテレビのスクリーンは、より高性能を求めて酸化物半導体技術の採用が拡大 新しいAKT-PECVDは、酸化物半導体のバックプレーン用にコスト効率の良い膜を提供 アプライド マテリアルズ(Applied Materials, Inc., Nasdaq：AMAT、本社：米国 ...

今週は、PVD,CVD,陽極酸化についてです。PVDは物理的、CVDは化学的、陽極酸化は電気化学的な膜形成手法となります。こちらも技術士「金属部門」〈0702 表面技術〉の中心テーマです。それぞれについて、原理、特徴、メリット、デメリットをまとめてみました。

FPD(フラットパネルディスプレイ)生産では、ガラス基板に350℃以下の低温でシリコン酸化膜を形成する必要がある。現在、第6世代以上の大型FPD、モバイル用小型高性能FPDの生産ではプラズマCVD(化学気相成長)方式やスパッタリング方式を使用しているが ...

国立大学法人 - 入札公告（物品・サービス一般）SiO2／SiNPECVD装置一式 ⑶ 調達件名の特質等 入札説明書による。 ⑷ 納入期限 令和8年3月31日 ⑸ 納入場所 京都大学学際融合教育研究推進センター（ナノテクノロジーハブ拠点） ⑹ 入札方法 落札決定に ...