【プレスリリース】発表日:2026年06月23日ピュアオゾンガスと水蒸気による新たなOHラジカル生成技術の確立原子層堆積プロセスへの適用に成功〜先端半導体用ゲート酸化膜の膜質向上効果を確認〜株式会社明電舎（以下、明電舎）は、ピュアオゾンガス（※1）と ...