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12:52
How ASML Built the World’s Most Advanced EUV Light Source?
11 か月前
MSN
Amazing Experts
0:55
\ Join the Future🌏/ スマートフォン、AI、自動運転…私たちの日常を豊かにする最先端技術。その中核を担う半導体は、ASMLが製造する「露光装置」なしには生まれません。 日本から世界へ。 多様なバックグラウンドを持つ仲間たちと共に、私たちは人々の暮らしと世界の未来を変える挑戦を続けています。 私たちの情熱と、テクノロジーが持つ無限の可能性を、ぜひこの動画で感じてください! | ASML
視聴回数: 8.8万 回
9 か月前
Facebook
ASML
What does the reticle stage do in High NA EUV lithography? | ASML | Marjan Flohr
視聴回数: 8177 回
4 か月前
linkedin.com
Why is the wafer stage important in High NA EUV lithography? | ASML | Timothy Westrick, JD
視聴回数: 7013 回
4 か月前
linkedin.com
0:21
\ASML Tech|ASMLの"光速"半導体製造/ 「1秒間に映画100本以上を配信する速さ」 これは、ASMLの最新鋭装置で実際に行われている、驚異的なデータ転送速度に匹敵します。 ASMLのHigh-NA EUV露光装置では、光を用いてレチクルと呼ばれる設計図をウェハに転送しています。このような超高速・超高精度な技術があるからこそ、最先端デバイスの心臓部となる半導体チップの量産が可能になっているのです。 技術の進化に終わりはありません。 ASMLは、さらなる革新を目指して挑戦を続けています。 #ASML #BePartOfProgress | ASML
視聴回数: 4742 回
2024年12月17日
Facebook
ASML
1:39
\ASML Tech|なぜHigh-NA EUVで高い生産性を実現できる?/ 半導体技術はトランジスタをより小さく、より多くのトランジスタをシリコンウェハに集積する過程で進歩してきました。多くの機能と性能を盛り込んだ半導体チップを大量生産することで、手頃な価格で半導体チップを提供できるようになったのです。 ASMLでは、8ナノメートルの高精細のパターンを描けるHigh-NAのEUVリソグラフィシステム「TWINSCAN EXE:5000」を提供。このEXEシステムは、高速で稼働するステージが搭載されていて、高い生産性を実現しています。 【ポイント】 ✅アナモルフィック光学系により、露光フィールドのサイズは従来のNXEシステムの半分に。 ✅フィールドが半分になったため、理論的には1枚のウェハのパターンには2倍の時間がかかることになる。 ✅EXEシステムのレチクルステージはNXEの4倍の速度(32g)で加速することでこの問題を回避。 ✅EXEは1時間あたり185枚以上のウェハを露光可能。2025年には1時間あたり220枚を目指している。 👇詳しくはこちら|High-NA EUVの5つの特
視聴回数: 1.7万 回
2024年6月18日
Facebook
ASML
0:14
ASML's reticle stage | ASML | 51 comments
視聴回数: 51 回
2025年4月24日
linkedin.com
0:20
Inside an ASML TWINSCAN machine | ASML | 37 comments
視聴回数: 37 回
2023年9月28日
linkedin.com
ASML Developing Next-Gen EUV Lithography
2018年12月5日
ieee.org
The reticle and reticle stage - Inside the TWINSCAN NXE:3400 EUV lithography machine | ASML on Make a GIF
2024年4月2日
makeagif.com
ASML PAS 5500/300C DUV Wafer Stepper Training Video
2020年10月15日
cornell.edu
0:52
\ASML Tech|まばたきより早い7Gの加速度/ ASMLが製造するTWINSCAN NXTでは、1時間に何枚のウェハを露光できると思いますか? 答えは295枚です! これまでのTWINSCANモデルと比べると、1日に400〜500枚のウェハを追加で処理できるようになりました。 TWINSCANモデルの特徴は、同時に2枚のシリコンウェハを処理できること。片方のウェハステージが「露光」を行っている間に、もう一方のウェハステージでは「計測」を行っています。この同時処理を実現するためには、ウェハを最大7Gで加速させる必要があります。 #7Gとは?F1カーに例えてみると… 👉 F1カーは0〜100km/hまで平均約2.5秒かかります 👉 7Gの加速度で0〜100km/hまで約0.4秒しかかかりません! 実は、7Gの加速度は人のまばたきよりも早いんです。 #動画の製造プロセスを解説! TWINSCANのデュアルステージは、メカトロニクス、光学設計、計測(データ処理、制御を含む)を統合して行うことができるモジュールです。 👉 右側のウェハステージ:露光 DUV(深紫外線)によって露光され
視聴回数: 469 回
2023年9月22日
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ASML
How an ASML Lithography Machine Moves a Wafer
2024年1月10日
adafruit.com
2:43
ASML의 제품 관리 책임자가 High NA EUV 리소그래피에서 레티클 스테이지(Reticle stage)가 어떻게 정밀한 패터닝을 구현하는지 설명합니다.🔍 첨단 반도체 제조 공정에서의 레티클 스테이지에 대해 알아볼까요? ✔️ 13.5나노미터 EUV 광이 일루미네이터(illuminator)를 거쳐 다듬어지고, 칩 패턴이 형성하는 과정 ✔️ 레티클 위를 초고속으로 움직이며 EUV 광에 칩 패턴을 새기는 스캐닝 과정 ✔️ F1 레이싱카보다 30배 빠른 32g의 가속도로 웨이퍼 스테이지와 완벽하게 동기화 되어 움직이는 레티클 스테이지 레티클 스테이지의 실제 작동 원리와 차세대 반도체 제조를 위한 High NA EUV 기술의 핵심을 영상으로 확인해보세요! 🎥 https://youtu.be/4K5V_xLsEQ4?si=SbdPf-YydRIe4Dwp #ASML #ASML코리아 #ASMLKorea #HighNA #EUV #리소그래피 #반도체 #혁신 | ASML
視聴回数: 2.3万 回
7 か月前
Facebook
ASML
0:13
【ASML 週報|誰能比它快!眨眼間就有 7G 的加速度高速移動😱】 猜猜看,由 ASML 生產的 TWINSCAN NXT 每小時可以曝光多少片晶圓?答案是 295片!相較早期的 TWINSCAN 系統相比,每天可以額外交付 400-500 個晶圓。雙晶圓平台能在同一時間移動兩片矽晶圓:其中一邊的晶圓進行曝光;另一邊的晶圓同時進行量測。 要達到這個生產速度,晶圓平台需要以高達 7G 的加速度高速移動。 #7G是什麼概念? 小編拿 F1 賽車比較給你聽~ 👉 F1 賽車從 0 加速到 100km/h 平均約需 2.5 秒 👉 7G 加速度從 0 到 100km/h 只需要約 0.4 秒!比眨眼的速度還快😉 #從微影製程談起 微影是半導體製程量產的關鍵步驟,是透過曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構,接著透過蝕刻將光罩上的圖形「轉印」到晶圓上的過程。 #光速運行的雙晶圓平台 ASML 的「雙晶圓平台」是定位模組(Positioning Module)擔當,整合了機械電子學、光學設計與量測學(包含量測、數據處理及控制),能在同一時間移動兩片矽晶圓。 #搭配影片看更有感 👉 右邊的
視聴回数: 3万 回
2023年6月13日
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ASML
0:15
【ASML 週報|🏎️ 當 F1 賽車遇上 EUV,誰更快?】 F1 賽車從 0 加速到 100 公里/小時只要 2.5 秒,這速度已經夠驚人了吧?但如果告訴你,ASML 的 EUV 微影系統內的關鍵組件,能在 0.09 秒內達到同樣的速度,足足是 F1 的 30 倍,是不是有點超乎想像?😲 這一切發生在我們的 EUV 微影系統內,當標線在 EUV 光的照射下,精準刻畫出微小的晶圓圖案時,負責移動它們的光罩平台模組(Reticle stage)需要承受 32g 的加速度!換算過後,等於能在 0.09 秒內從 0 加速到 100 公里/小時🏎️🏎️🏎️ 除了拼速度,更是一場在重力下對極致精準的挑戰。 在毫釐之間掌控方向,在極速之中保持穩定,這就是 ASML 持續突破技術邊界的方式。當 F1 車手在毫釐之間操控方向、挑戰極速時,ASML 的技術也在奈米的世界中以更快的速度、超越極限的精準度,驅動半導體產業的未來。 我們的技術不僅驅動著半導體產業的未來,更在科技的賽道上,成為真正的極速冠軍!🏁✨下一次當你看到賽車呼嘯而過,不妨想想,在微影的世界裡,也有一場更快、更瘋狂的極限挑戰正
視聴回数: 4万 回
2025年4月30日
Facebook
ASML
0:11
【ASML EUV微影設備|雙晶圓平台處理技術⚙️】 ASML TWINSCAN曝光機中的晶圓平台(Wafer Stage)是微影設備中關鍵的定位模組(Positioning Module),在系統設計上整合機械電子學、光學設計及量測學(包含量測、數據處理及控制)。雙晶圓平台能在同一時間移動兩片矽晶圓:其中右邊的晶圓曝光於EUV極紫外光下,將電路設計圖影像(Pattern)刻在晶圓上;左邊的晶圓同時由機台的量測儀器優化其準確度(Alignment)。兩個平台交替執行微影和量測功能,並以電磁的方式移動,在無摩擦力的作用下能加速至7G❗️ 這就是ASML的微影系統如何在晶片量產時得以兼顧準確性及生產速度的關鍵。⚡️ #ASML #EUV #WaferStage | ASML
視聴回数: 7.4万 回
2019年6月13日
Facebook
ASML
1:56
What is behind ASML's record orders?
3 か月前
CNBC
Kai Nicol-Schwarz
18:39
Inside ASML, the wildly successful company that every advanced chipmaker relies on
2022年3月23日
CNBC
Katie Tarasov
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3分で半導体ツウ:TSMCもIntelも頭が上がらない!? 最強の独占企業「ASML」の正体
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2017年10月17日
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ASML株:EUV露光装置のシェア100%
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2020年8月14日
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うみがめ半導体株リサーチ
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ASML次世代半導体製造装置が実用化へ前進、AI進化の鍵を握る技術とは
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2 か月前
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2025年4月26日
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Why are ASML and Lasertec stock prices soaring? Explaining the impressive technological capabilit...
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2024年9月21日
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2024年4月19日
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トウシル [楽天証券]
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