Unveiling High NA EUV | ASML | Volker Heinsohn
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Unveiling High NA EUV | ASML | Volker Heinsohn
I'm amazed by our latest High NA EUV video! It's awe-inspiring to watch the inner workings of a High NA EUV machine come to life with laser-produced plasma, anamorphic optics and more. High NA EUV is poised to set new benchmarks for transistor density and chip performance, and this video proves its potential. The future of chipmaking is here ...
2024年7月21日
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＼ASML Tech｜独自に開発したEUV光（極端紫外線）／ 露光装置において「光」は重要な要素の1つです。光は海の波のように、山と谷が連続する波長で構成されており、その波長が短いほどより精密な回路パターンをウェハに刻むことができるのです。 ASMLではより精密な半導体チップを作るために、光の波長を短くする研究を行ってきました。そして独自に開発したのが、非常に波長が短い光である「EUV（極端紫外線）」です。 EUVは、霧のように液化した錫にレーザーを当てて生成します。その工程を1秒間に5万回という非常に早いスピードで繰り返すことによって、露光に必要なパワーまで出力を上げることができるのです。 より詳しい説明はこちら 👉https://reurl.cc/L69nKL #ASML #BePartOfProgress | ASML
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＼ASML Tech｜1秒間に5万回生成されるEUV（極端紫外線光）／ スマートフォンやパソコンの頭脳となる半導体チップ。その製造過程をご存じですか？ ASMLのHigh-NA EUV露光装置は、現代の技術の粋を集めた機械。極小のチップパターンを量産するために、精密な技術が組み合わさっています。その中の1つが、ASML独自の技術である「EUV」です。 では4つのステップに分けてご紹介します💡 ーーーーーーーーーーーー ①人間の髪の毛の1/3ほどの小さな錫（すず）の液滴を作り出す ②レーザーを当て液滴をパンケーキのように平らに伸ばす ③再度レーザーを当て、太陽の表面温度の40倍もの温度でプラズマを生成する ④プラズマからEUV光が放射される ーーーーーーーーーーーー この工程を1秒間に5万回も繰り返しているんです😲 私たちの生活をより便利に、より豊かにする最先端チップは、こうした技術に支えられています。 #ASML #BePartOfProgress | ASML
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