EUV dual pod EIP (EUV inner pod) polymer separation to reduce particle generation
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EUV dual pod EIP (EUV inner pod) polymer separation to reduce particle generation
As the semiconductor fabs drive to smaller nodes, the importance of reducing particles in the environment that could transfer to the reticle becomes increasingly critical 1,2 . An Entegris EUV Dual Pod houses a reticle in an EIP (EUV Inner Pod) that interfaces with ASML’s NXE/EXE tool’s vacuum environment, and an EOP (EUV Outer Pod) that ...
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